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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

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Éditeur :

Wiley-Scrivener


Paru le : 2013-05-17



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Description
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Pages
272 pages
Collection
n.c
Parution
2013-05-17
Marque
Wiley-Scrivener
EAN papier
9781118062777
EAN PDF
9781118747421
Informations sur l'ebook
Nombre pages copiables
0
Nombre pages imprimables
272
Taille du fichier
3348 Ko
Ce livre est accessible aux handicaps Voir les informations sur l'accessibilité
Prix
221,50 €
EAN EPUB
9781118747384
Informations sur l'ebook
Nombre pages copiables
0
Nombre pages imprimables
272
Taille du fichier
6513 Ko
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Prix
221,50 €

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