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Silicon Technologies

Ion Implantation and Thermal Treatment

de

Éditeur :

Wiley-ISTE


Paru le : 2013-02-07



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Description

This book has been written to provide newly arrived engineers in a silicon foundry environment with a comprehensive background in the fundamental physical and chemical basis for major front-end silicon treatments, such as oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion, as well as giving a survey of the major types of equipment used in integrated circuit (IC) chip foundries.
Techniques include various forms of chemical vapor deposition (CVD), epitaxy, thin film technologies, lithography, masking, and other nanotechnologies.
As well as the target audience, the book will also be of great interest to engineers and advanced students in all these and related fields of electrical engineering, materials science, and manufacturing.
Pages
368 pages
Collection
n.c
Parution
2013-02-07
Marque
Wiley-ISTE
EAN papier
9781848212312
EAN PDF
9781118601112
Informations sur l'ebook
Nombre pages copiables
0
Nombre pages imprimables
368
Taille du fichier
14172 Ko
Ce livre est accessible aux handicaps Voir les informations sur l'accessibilité
Prix
169,80 €
EAN EPUB
9781118601143
Informations sur l'ebook
Nombre pages copiables
0
Nombre pages imprimables
368
Taille du fichier
5396 Ko
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Prix
169,80 €

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