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Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon



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Éditeur :

Wiley-ISTE


Paru le : 2013-02-07



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Description

This book describes up-to-date technology applied to high-K materials for More Than Moore applications, i.e. microsystems applied to microelectronics core technologies.
After detailing the basic thermodynamic theory applied to high-K dielectrics thin films including extrinsic effects, this book emphasizes the specificity of thin films. Deposition and patterning technologies are then presented. A whole chapter is dedicated to the major role played in the field by X-Ray Diffraction characterization, and other characterization techniques are also described such as Radio frequency characterization. An in-depth study of the influence of leakage currents is performed together with reliability discussion. Three applicative chapters cover integrated capacitors, variables capacitors and ferroelectric memories. The final chapter deals with a reasonably new research field, multiferroic thin films.
Pages
448 pages
Collection
n.c
Parution
2013-02-07
Marque
Wiley-ISTE
EAN papier
9781848213135
EAN PDF
9781118602768
Informations sur l'ebook
Nombre pages copiables
0
Nombre pages imprimables
448
Taille du fichier
11479 Ko
Ce livre est accessible aux handicaps Voir les informations sur l'accessibilité
Prix
225,72 €
EAN EPUB
9781118602805
Informations sur l'ebook
Nombre pages copiables
0
Nombre pages imprimables
448
Taille du fichier
9103 Ko
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Prix
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